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SPV-150真空等离子清洗机
军工级的焊接工艺,腔体密封性强,高密度等离子源,保证全方位均匀清洗;
一键启动,精确控制试验时间、真空度、功率等重要参数;
45℃超低清洗温度,不造成热影响,确保稳定的处理效果;
双路或多路工艺气体,气体控制稳定;
易操作及维护,全程工艺可控,可在线设置、修改、监控各种工艺参数;
产品概述
SPV-150真空等离子清洗机广泛应用于LED、半导体等行业,改变表面粗糙度,去除污染物,提高附着力,加大粘合强度,减少气泡,提高发光率。
规格参数
产品优势
半导体加工工艺及其它薄膜加工工艺过程中,各类光刻胶的等离子去除,去除材料表面污染物,保证与其他材料的结合能力。
晟鼎的微波PLASMA去胶机,搭载国内首创微波半导体去胶发生器技术,配置磁流体旋转架,使微波等离子体更加高效、均匀的输出,不仅去胶效果好,还能做到无损硅片与其他金属器件。并提供“微波+Bias RF”双电源技术,以应对不同客户需求。
等离子清洗技术是清洗方法中最为彻底的剥离式清洗方式,其最大优势在于清洗后无废液,最大特点是对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料等都能很好地处理,可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。